Фоторезисты негативные

Форезист негативный УФН-1

Форезист негативный УФН-1

Форезист негативный УФН-1

Негативный фоторезист для дальнего ультрафиолета (от 240 нм до 280 нм) с водно-щелочным проявлением пленки. Позволяет достичь формирования фоторезистной маски с разрешением не хуже 0,6 мкм.

Читать полностью...
Фоторезисты негативные серии ФН-11

Фоторезисты негативные серии ФН-11

Фоторезисты негативные серии ФН-11 (ФН-11С, ФН-11С-К)

Универсальные негативные фоторезисты, чувствительные к спектру ртутной лампы. Обеспечивают толщину пленок от 1 до 3,5 мкм и обладают кинематической вязкостью 14-19 мм2/с, что позволяет добиться разрешающей способности не хуже 10 мкм. Проявление в органическом растворителе (уайт-спирит).

Читать полностью...
Фоторезисты негативные серии ФН-14ТК

Фоторезисты негативные серии ФН-14ТК

Фоторезист негативный ФН-14ТК

Толстопленочные негативные фоторезисты (i-линия) – прямые аналоги импортных фоторезистов серии ma-N400 (Micro Resist Technology GmbH), применяемые для процессов физического напыления (PVD), а также для Lift-off процессов. Пленка фоторезистов проявляется в водном растворе едкого натрия или гидроксида тетраметиламмония. Обеспечивает разрешающую способность 8-10 мкм при толщине пленки 1,9-7,2 мкм.

Читать полностью...
Фоторезисты негативные с химическим усилением серии ФН-16У

Фоторезисты негативные с химическим усилением серии ФН-16У

Фоторезисты негативные с химическим усилением серии ФН-16У: ФН-16У-2, ФН-16У-4, ФН-16У-7

Фоторезисты серии ФН-16У предназначены для использования в качестве защитного светочувствительного материала в прецезионных фотолитографических процессах.

Читать полностью...
Контрактное производство
Премия призвание
Фото и видеоматериалы