Форезист негативный УФН-1

Форезист негативный УФН-1

Контактная информация по продукту

Где купить?

Отдел сбыта
Тел.: (495) 408-81-66, тел./факс. (495) 408-50-81
e-mail: zavod-lixach7@mail.ru

Отдел материалов для электроники и спецтехники

Зав. отделом: Хан Ир Гвон
Зам. Зав. отделом: Кузнецова Нина Александровна
(495) 408-72-63, e-mail: lab32@niopik.ru


Версия станицы на английском языке En

Фоторезист негативный УФН-1

ТУ 6-36-0210138-79-0-91

Предназначен для использования в процессах микролитографии при изготовлении интегральных схем, фотошаблонов и других изделий, требующих воспроизведения элементов изображения минимальным размером не хуже 0,6 мкм. Экспонирование пленки осуществляется источником дальнего УФ-излучения длиной волны от 240 нм до 280 нм. Пленка фоторезиста проявляется в водном растворе едкого калия.

 
Наименование показателя Норма показателя
Внешний вид Прозрачная жидкость от желтого до коричневато-желтого цвета без механических включений
Кинематическая вязкость при температуре (20,0±0,1)°С, мм2/с 7,0-8,4
Массовая доля сухого остатка, % 24-26
Оптическая плотность фоторезиста при длинах волн:
265 нм
280 нм

0,600-0,700
0.550-0.650
Фильтруемость фоторезиста, г-1, не более 0,01
Время растворения пленки фоторезиста в проявителе, с 30-90
Контрактное производство
Премия призвание
Фото и видеоматериалы