Фоторезисты негативные серии ФН-14ТК

Фоторезисты негативные серии ФН-14ТК

Контактная информация по продукту

Где купить?

Отдел сбыта
Тел.: (495) 408-81-66, тел./факс. (495) 408-50-81
e-mail: zavod-lixach7@mail.ru

Отдел материалов для электроники и спецтехники

Зав. отделом: Хан Ир Гвон
Зам. Зав. отделом: Кузнецова Нина Александровна
(495) 408-72-63, e-mail: lab32@niopik.ru


Версия станицы на английском языке En

Фоторезисты негативные серии ФН-14ТК

ТУ 2378-084-05784466-2015
ТУ 2378-084-05784466-2015

Серия экспериментальных толстопленочных негативных фоторезистов, применяемых для процессов физического напыления (PVD), а также для Lift-off процессов. Пленка фоторезистов проявляется в водном растворе едкого натрия или гидроокиси тетраметиламмония. Профиль сформированной маски имеет обратный клин. Фоторезисты серии ФН-14ТК являются прямыми аналогами серии импортных фоторезистов ma-N400 (Micro Resist Technology GmbH). Возможен выпуск любой модификации, обеспечивающей толщину пленок от 0,5 до 7,5 мкм.

 
Наименование показателя Норма показателя
Внешний вид Вязкая жидкость темно-коричневого цвета.
Разрешающая способность пленки фоторезиста, мкм, не хуже 8 10 10
Доза экспонирования, мДж/см2 800-900 1500-1700 1900
Массовая доля сухого остатка, % 37,0±1,5 44,5±2,0 50,5±2,5
Толщина пленки фоторезиста, мкм 1,9-2,3 3,9-4,2 6,8-7,2
Время проявления, мин 1,0-1,5 3,0-4,0 2,5-4,0


Фоторезисты негативные ФН-14ТК-2, ФН-14ТК-4, ФН-14ТК-7 хранят в упаковке изготовителя в сухом закрытом складском помещении, снабженном приточно-вытяжной вентиляцией, при температуре от плюс 18 °С до плюс 25 °С и относительной влажности воздуха не более 80%.



Справочные данные

Кинематическая вязкость при (20,0 ± 0,1) °С:
ФН-14ТК-2 – 32,33 мм2/с,
ФН-14ТК-4 – 141,44 мм2/с,
ФН-14ТК-7 – 726,65 мм2/с.



Частота вращения ротора центрифуги, об/мин Толщина пленки фоторезиста, мкм
ФН-14ТК-2 ФН-14ТК-4 ФН-14ТК-7
1000 4.0 6.7 13.8
1400 3.2 5.5 11.9
1800 2.6 4.8 10.2
2000 2.46 4.45 9.6
2500 2.3 4.0 8.2
3000 2.15 3.7 7.4


Рекомендации по применению ФН-14ТК-7

Нанесение В качестве подложки использовался , предварительно прокаленный при 400°С и запромотированный в парах гексаметилдисилазана в течение 20 минут, окисленный кремний. Нанесение (об/мин.) – 3000 об/мин в течение 2 минут.
Сушка Проводится на воздухе в течение 30 минут, затем в сушильном шкафу в течение 40 минут при температуре(97±3)°С (расположение пластин горизонтальное), далее пластины остывают при комнатной температуре 20 мин.
Экспонирование Энергия экспонирования пленки толщиной 7,1 мкм составляет приблизительно 1900 млДж/см²
Проявление Проявление в водном растворе гидроокиси натрия с нормальностью 0,254 г-экв/л в течение 2,5 мин или 2,38% водным раствором гидроокиси тетраметиламония в течение 1 мин.
Напыление металлов Методом электронно-лучевого испарения. Толщина напыляемого слоя порядка 6 мкм при температуре напыления 100 °С.
«Взрыв», lift-off В N, N-диметилформамиде: сначала замачивание при температуре 20 °С в течение 20-30 мин, затем финишная отмывка при 70 °С.
Удаление Пленка удаляется обработкой в холодных органических растворителях (диметилформамид, ацетон или их смесь) в течение 2-3 мин.
Контрактное производство
Премия призвание
Фото и видеоматериалы