Фоторезисты позитивные

Позитивные фоторезисты серии ФП-9120

Позитивные фоторезисты серии ФП-9120 (ФП-9120-1,0; ФП-9120-1,8; ФП-9120-2,0)

Универсальный тонкопленочный позитивный фоторезист (g- и h- линия) для контактного и проекционного экспонирования с водно-щелочным проявлением пленки раствором едкого калия. В зависимости от марки пленка фоторезиста обеспечивает разрешающую способность от 1 до 2 мкм, устойчивость к проявителю от 30 до 50 мин, светочувствительность не более 2,5-2,7 мДж/см2.

Читать полностью...

Позитивный фоторезист ФП-2550

Позитивный фоторезист ФП-2550

Универсальный толстопленочный позитивный фоторезист (g- и h- линия) для контактного и проекционного экспонирования, чувствительный к спектральному диапазону ртутной лампы (g-линия), с водно-щелочным проявлением пленки раствором едкого калия. Обеспечивает разрешающую способность от 20 мкм при толщине пленки 6-7 мкм.

Читать полностью...

Позитивный фоторезист ФП-3515-27

Позитивный фоторезист ФП-3515-27

Прямой аналог фоторезиста серии Microposit S1800 (Shipley). Пленка фоторезиста проявляется в водном растворе едкого натрия и тетраметиламмония гидроксида (TMAH). ФП-3515-27 обеспечивает формирование пленки с разрешением не хуже 0,8 мкм при экспонировании источником излучения с g- и h- линией в спектре, термопластичностью не менее 150°С при высокой светочувствительности (не более 2,7 мДж/см2).

Читать полностью...

Позитивный фоторезист ФП-383

Позитивный фоторезист ФП-383

Широко известный универсальный тонкопленочный позитивный фоторезист (g- и h- линия), применяемый в фотолитографических процессах контактного и проекционного экспонирования в производстве интегральных схем, полупроводниковых приборов металлизированных шаблонов, шкал, сеток, печатных плат. Фоторезист обеспечивается формирование маски с разрешением не хуже 1 мкм при толщине пленки 1,0-1,2 мкм, устойчивостью к проявителю (раствору едкого калия) не менее 30 мин, светочувствительностью не более 2,5-2,7 мДж/см2.

Читать полностью...

Фоторезисты позитивные серии ФП-27В-Р

Фоторезист позитивный ФП-27В-Р

Позитивный фоторезист (g- и h- линия) для дисперсионного метода формирования пленок, проявляемых в водном растворе едкого калия. Фоторезист имеет кинематическую вязкость 2-3 мм2/с, формирует пленку с толщиной 0,7-1,0 мкм, с разрешением не хуже 1 мкм и устойчивостью к проявителю не менее 30 мин.

Читать полностью...

Электронный резист позитивный ЭЛП-20

  • ЭЛП-20
Читать полностью...
Контрактное производство
Премия призвание
Фото и видеоматериалы