Позитивные фоторезисты серии ФП-9120

Контактная информация по продукту

Где купить?

Отдел сбыта
Тел.: (495) 408-81-66, тел./факс. (495) 408-50-81
e-mail: zavod-lixach7@mail.ru

Отдел материалов для электроники и спецтехники

Зав. отделом: Хан Ир Гвон
Зам. Зав. отделом: Кузнецова Нина Александровна
(495) 408-72-63, e-mail: lab32@niopik.ru


Версия станицы на английском языке En

Позитивные фоторезисты серии ФП-9120: ФП-9120-1,0; ФП-9120-1,8; ФП-9120-2,0 

ТУ 2378-027-05784466-2005

Предназначены для применения в фотолитографических процессах контактного и проекционного экспонирования в производстве интегральных схем с уровнем интеграции 16-64 Кбит, полупроводниковых приборов металлизированных шаблонов, шкал, сеток, печатных плат с применением водно-щелочного проявления раствором едкого калия. Экологически безопасны. Фоторезисты серии ФП-9120 являются аналогами по применению фоторезистов ФП-383, ФП-10, ФП-051Ку, Microposit S1813 G2. Возможен выпуск любой модификации, обеспечивающей толщину пленок от 0,5 до 3,5 мкм и окрашенных форм ФП-9120-2-К, ФП-9120-Ш. 

Наименование показателя Норма показателя
ФП-9120-1 ФП-9120-1,8 ФП-9120-2
Внешний вид Вязкая прозрачная жидкость желто-коричневого цвета Вязкая прозрачная жидкость желто-коричневого цвета Вязкая прозрачная жидкость желто-коричневого цвета
Кинематическая вязкость,мм2/с 13-17 26-29 29-34
Фильтруемость, г-1, не более 0,010 0,010 -
Разрешающая способность пленки фоторезиста, мкм 1 1 2
Толщина пленки фоторезиста, мкм 1,1-1,3 1,7-1,9 1,9-2,3
Адгезия пленки фоторезиста к поверхности окисла кремния Отсутствие отслаивания элементов шириной
2 мкм 2 мкм 3 мкм
Устойчивость пленки фоторезиста в проявителе, мин, не менее 30 45 50
В процессе растворения пленки не должно наблюдаться ряби и радиальных лучей
Теплостойкость проявленного рельефа при температуре (130±2)°С Отсутствие полного затекания промежутков между элементами шириной
2 мкм 3 мкм 3 мкм


Рекомендации по применению ФП-9120-1,0

Наименование операции Режимы проведения операции
Нанесение Центрифугирование при скорости вращения 3000 об/мин: время вращения центрифуги 60 с.
Сушка Пластины с пленкой фоторезиста выдерживают:

в скафандре при температуре (18-25) °С в течение 20 мин;
в термошкафу при температуре (97±3) °С в течение 40 мин;
в скафандре при температуре (18-25) °С в течение 30 мин.
Экспонирование Светочувствительность пленки фоторезиста толщиной (1,1-1,3) мкм не более 40 мДж/см2.
Проявление Проявитель 0,6%-ный (0,105 н) водный раствор КОН; время проявления 30-60 с.
Термообработка В термошкафу при температуре 120 °С в течение 20 мин.
Удаление Пленка удаляется обработкой в нагретом до (60-80) °С N, N-диметилформамиде или в смеси его с 5% триэтаноламином.
Контрактное производство
Премия призвание
Фото и видеоматериалы