Проявители для фоторезистов

Гидроксид тетраметиламония 20% водный раствор

Гидроксид тетраметиламония 20% водный раствор

Гидроксид тетраметиламмония (ГТМА, TMAH, TMAOH) – четвертичное аммонийное основание, обладающее поверхностно-активными свойствами. Водный раствор ГТМА применяется в литографических процессах в качестве безметального проявителя для пленок фоторезистов (2,38% раствор) и анизотропного травителя для кремния и арсенида галлия (5-25% раствор). Эффективен для удаления фоторезистной маски.

Читать полностью...
Контрактное производство
Премия призвание
Фото и видеоматериалы